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追平台积电 三星2nm工艺良率已突破60%

2026-03-25
來源:IT之家

3 月 24 日消息,三星半導體制造領域取得突破,其先進的2nm工藝良率近期已突破 60%。這一進展將使該公司能夠以更低成本生產更多高性能芯片,同時吸引新客戶。

據 Hankyung 報道,三星2nm工藝的良率在短短兩個季度內增長了兩倍多。去年下半年,該工藝良率僅約 20%,導致晶圓上的大部分芯片無法使用。如今良率突破 60%,三星已與臺積電的良率水平基本持平。據悉,行業龍頭臺積電的 2 納米工藝良率在 60% 至 70% 之間。

三星正為自家 Exynos 2600 智能手機處理器生產2nm工藝芯片,根據不同市場,這款自研芯片將搭載于部分三星 Galaxy S26 及 S26+ 機型。

報道稱,盡管 Exynos 2600 芯片良率仍未達到 50%,但相比前代產品,三星已成功提升了其性能與生產效率。

由于工藝精度要求極高,2nm制程的良率提升難度極大。更高的良率不僅能降低生產成本,還能幫助三星拿下更多全球客戶的訂單。該公司已與特斯拉簽訂了價值 165 億美元(注:現匯率約合 1137.92 億元人民幣)的合同,其晶圓代工部門將在泰勒芯片制造廠為這家車企生產下一代 AI6 芯片。

行業觀察人士表示,小于5nm的先進芯片在信息技術設備中的應用正日益廣泛。若三星能實現穩定且可觀的2nm良率,將吸引更多尋求尖端半導體解決方案的客戶。如此一來,這家韓國晶圓代企業有望在未來幾年縮小與主要競爭對手臺積電在市場份額方面的差距。=

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