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SK海力士加速推进超300层V10 NAND闪存

目标2027年量产
2025-12-10
來源:快科技

12月9日消息,據Trendforce報道,SK海力士確認將于2027年初量產第十代V10 NAND閃存,核心突破在于首次采用300+層堆疊架構并集成混合鍵合技術(Hybrid Bonding)。

該技術通過將存儲陣列晶圓與外圍電路晶圓分別制造后垂直鍵合,形成單一高性能單元,顯著提升產品良率、數據傳輸效率及生產效益。

此舉顛覆了行業技術路線預期——此前業界普遍認為混合鍵合技術需至400層堆疊階段才會啟用。

SK海力士選擇在300層節點提前商業化部署,旨在加速確立存儲技術領導地位,應對AI及數據中心市場對高密度閃存的迫切需求。

同步披露的產能動態顯示,受企業級固態硬盤(eSSD)需求激增驅動,其第九代NAND閃存產線已接近滿載。SK海力士正積極擴大現有產品供應規模,為下一代技術量產前的市場過渡期提供支撐。


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