3月31日消息，據臺媒《聯合報》報道，臺積電前工員工、TEL工程師陳力銘與臺積電在職工程師吳秉駿、戈一平合謀竊取臺積電2nm關鍵技術一案于3月26日審理結束，最終判決結果將于4月27日宣判。

同時，針對陳力銘2024年涉嫌指使前臺積電工程師陳韋杰，以手機偷拍臺積電機密資料一案，裁定陳力銘、陳韋杰二人自4月1日及8日起延廠羈押兩個月。

起訴指出，陳力銘曾任臺積電Fab 12晶圓廠良率部門工程師，離職后進入臺積電的半導體制造設備供應商TEL行銷部門。

2023年至去年上半年，陳力銘為替TEL公司爭取成為臺積電先進制程更多站點設備供應商，多次要求當時在職的臺積電工程師吳秉駿、戈一平提供臺積電關鍵技術與營業秘密，拍攝重制后由TEL公司檢討改善刻蝕設備表現，以爭取臺積電2nm制程刻蝕站點供應量產機臺資格。

臺積電發覺異常后啟動內部調查，懷疑有在職與離職員工非法取得關鍵技術與營業秘密，于2025年7月8日提出起訴。中國臺灣于2025年7月25至28日指揮調查局發動搜索、約談，審訊后將陳力銘、吳秉駿、戈一平申請羈押禁止會見獲準。

2025年8月27日，中國臺灣依照“營業秘密法”之意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪、“安全法”之地區核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪起訴3人，并求處陳力銘應執行有期有期徒刑14年、吳秉駿應執行9年有期徒刑、戈一平7年有期徒刑。

隨后，檢方后續又查出，陳力銘于2024年5月涉嫌指使前臺積電工程師陳韋杰，以手機偷拍數十張涉及2nm制程原料與設備技術的機密資料。事件曝光后，TEL盧姓行銷經理疑為掩蓋證據，刪除云端硬盤內的臺積電機密資料。

檢方依照“安全法”及“毀滅刑事證據”等罪名，追加起訴陳力銘、陳韋杰、TEL及TEL盧姓經理，并分別要求對陳力銘判刑7年、對陳韋杰判刑8年8月、對盧姓經理判刑1年，對TEL則要求處罰金新臺幣2500萬元。

在案件偵查終結后，檢方于2026年1月提起第二次公訴；陳韋杰移審后，也遭裁定續押。3月26日午辯論終結，將在今年4月27日上午11時宣判，同時命吳秉駿、戈一平于宣判期日到庭聆聽判決。

此外，檢方考慮到，被告陳韋杰否認違反“安全法”的罪行，且其在所涉犯罪情節、手段等方面的供述前后不一，對犯罪細節避重就輕。因此，針對陳韋杰的共同犯罪情節調查，仍有必要將其相關電子記錄與共犯陳力銘及其他證人的供述內容進行比對核實。如果陳力銘、陳韋杰二人仍有機會相互串供或銷毀證據，極有可能導致案情陷入混亂不清的局面。原有的羈押理由目前依然存在，故裁定陳力銘、陳韋杰分別自今年4月1日及4月8日起，延長羈押兩個月，并禁止接見和通信。