3 月 19 日消息，比利時校際微電子研究中心 imec 當地時間 18 日宣布，其長期合作伙伴 ASML 已向其交付了一臺高數值孔徑 (High NA) 極紫外光 (EUV) 光刻系統，這款 EXE:5200 將在 imec 總部比利時魯汶為亞 2nm 中試線項目 NanoIC 提供關鍵支持。
▲ 圖源：imec
imec 此前已在 ASML 總部所在地荷蘭費爾德霍芬的 ASML-imec 聯合 High NA EUV 光刻實驗室與 ASML 一道攜手其它業界伙伴共同開拓最先進的半導體圖案化技術，而新光刻機的到來將為 imec 解鎖更大的研發自由與量產級能力。
imec 預計此次交付的 EXE:5200 High NA EUV 光刻系統將于 2026 年第 4 季度完成全面認證。
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