近日國產光刻機產業鏈再獲突破，上海傳芯半導體公開了用于EUV光刻機的曝光成像結構、反射式光掩模版組及投影式光刻機專利，這對于國產光刻機產業鏈來說是又一個關鍵的技術突破。

光刻機的生產之所以困難，在于它集中了全球科技行業的精華，需要德國、美國、日本等諸多國家的配套企業提供相關的組件，最終由荷蘭的ASML將之整合成為一臺光刻機，正是這種高度的配合才能生產出全球最先進的光刻機。

中國近幾年一直在努力實現光刻機的自主化，其中上海微電子在光刻機方面的進展較快，不過僅靠上海微電子是無法生產出先進的光刻機的，需要國內諸多產業鏈企業共同合作才能最終將之變成現實。

此前清華大學機械工程系朱煜教授帶隊的清華大學研發團隊就已研發出光刻機雙工作臺，由此中國成為全球第二個可以生產雙工作臺的國家；此外激光頭、鏡頭等廠商也陸續生產出先進的組件，再到如今上海傳芯半導體的突破，可以說國產光刻機的產業鏈正在加速完善。

中國的光刻機產業鏈得以迅速完善，在于這20多年打下的制造業基礎，這些基礎讓這些組件的研發和量產迅速推進，逐步完善，如此可以預期再過數年國產的先進光刻機終將會變成現實。

光刻機巨頭ASML曾經表示即使給中國企業圖紙，中國企業也無法生產出先進的光刻機，原因就在于光刻機的諸多組件都由非中國大陸的企業生產，然而如今中國的光刻機產業鏈在快速推進，顯然出乎了它的意料。

其實這也是ASML的自大吧，20多年前日本的光刻機可也是領先于ASML的，占有的市場份額與ASML相差不大，后來先進的光刻機成本越來越昂貴，于是ASML與光刻機客戶臺積電、三星、Intel等結成聯盟并由這些客戶入股，在利益捆綁之下，這些芯片制造企業都優先采用ASML的光刻機，才造成了如今ASML的一家獨大。

這就說明光刻機的技術其實并非由ASML所獨有，只不過ASML通過客戶捆綁的方式擊敗了日本的光刻機產業，最終才變成了ASML的一家獨大，然而如今日本也有意繞開ASML的光刻機，日本的鎧俠存儲就與日本企業研發了先機的NIL工藝，已在芯片制造行業走出了一條新路。

中國如今也是兩條腿走路，一方面繼續打通光刻機產業鏈，另一方面則是研發無需光刻機的芯片制造工藝，中國能如此做，在于中國龐大的市場，以及龐大的制造業基礎，無論那一條路打通，中國的芯片制造產業都能支撐起一條芯片制造產業鏈。

今年一季度ASML加緊對中國出貨光刻機，可能也正是預感到中國芯片制造產業鏈已取得新的突破，希望趕在中國量產自己的芯片制造設備之前再賺一筆，乃至以此壓制中國芯片產業鏈的發展，畢竟中國的成本優勢太強了，就如中國已量產的芯片價格低至美國芯片的四分之一，只要中國量產的芯片，歐美芯片企業都只能大舉降價拋售，近期歐美的芯片都傳出降價九成的消息就印證了這一點。

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