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中国首台EUV光刻机正式入驻SK海力士无锡工厂

2018-12-23
關鍵詞: 存储芯片 3DNAND

今年10月份SK Hynix才剛剛建成最新的M15晶圓廠,這是2015年全球最大的存儲芯片工廠M14落成時SK Hynix宣布的46萬億韓元投資計劃中的一部分,M15工廠位于韓國忠清南道的清州市,投資額高達15萬億韓元,主要生產3D NAND閃存,初期將生產現在的72層堆棧3D NAND,不過明年初就會轉向96層堆棧的3D NAND閃存。


著NAND閃存及DRAM內存不斷降價,2019年存儲芯片市場將迎來一輪熊市。為了應對降價導致的損失,三星、SK Hynix及美光都計劃削減資本支出,不過削減并不意味著他們不再建設芯片工廠了。

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就在本周三,也就是12月19日,SK海力士位于無錫的M16工廠正式舉行開工典禮,預計2020年正式建成,總投資額還沒確定,不過也不會低于15萬億韓元,其中基礎設施建設就要3.5萬億韓元,占地面積30英畝。這座工廠最終會生產DRAM內存還是NAND閃存都沒確定,SK Hynix表示這要看落成時的市場需求以及工廠的技術水平來決定。


不過有一點可以肯定的,M16工廠將會用上最先進的EUV光刻工藝——存儲芯片跟邏輯芯片不同,雖然對EUV光刻工藝的需求沒那么高,不過三星、SK Hynix依然計劃在未來使用EUV工藝生產存儲芯片,而美光對EUV的態度就比較保守,未來兩代的內存芯片依然不會用到EUV光刻工藝。


據ASML證實,此次入駐SK海力士無錫工廠確為NXT2000i,也即NXT2000。ASML解釋道,i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的機器。

今年8月份曾有消息表示,ASML已經開始出貨新品Twinscan NXT2000i DUV(NXT2000i雙工件臺深紫外光刻機),可用于7nm和5nm節點。


NXT2000i將是NXE3400B EUV光刻機的有效補充,畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。


同時,NXT2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產品,達到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm,7nm要求至少3.5nm)。


當時ASML只表示這款性能出眾的光刻機將于本年度末正式量產,尚未確定光刻機的價格。根據媒體的估計,按照目前ASML的定位,這款光刻機的定價應該在幾千萬至上億美元之間。ASML的3400B EUV光刻機的報價是1.2億美元一臺,而14nm節點的光刻機報價則在7200萬美元。


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