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日本突破2nm以下工艺新极限
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台积电12年来首次升级晶体管架构
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消息称三星电子3nm与2nm良率分别超60%和40%
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台积电A14第二代GAA工艺解读
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英伟达：GAA工艺或仅带来20%性能提升
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传美国将进一步限制GAA技术及HBM对华出口
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消息称三星成功突破低良率难关，3nm GAA制程如期量产
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三星陷入良率困境，3nm的GAA工艺，成了翻身机会
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三星3nm工厂即将动工，首发GAA工艺功耗直降50%
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3nm、5nm制程：复杂且昂贵的争夺战（一）
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全新GAA技术是否能成为突破5nm的利器？
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