10 月 20 日消息，全球四大半導體制造設備傳統巨頭之一的 TEL 日本當地時間 15 日宣布其位于九州地區熊本縣合志市的新工藝開發大樓正式竣工，將投入涂布顯影和清洗系統的研發工作。
TEL 的這棟新建筑共有地上四層，總建筑面積約 2.7 萬平方米，設有用于技術演示的半導體級潔凈室，建設成本約 470 億日元（注：現匯率約合 22.24 億元人民幣），大幅增強了 TEL 在熊本縣半導體集群區域的開發能力。
TEL 九州公司總裁林伸一表示，這一新項目將開發著眼于 1nm 及更先進制程的半導體設備。TEL 在涂布顯影領域全球市場份額第一，清洗領域的市占也排在全球第二。
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