近日，上海微電子舉行新產品發布會，該公司推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。據悉，上微已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協議，首臺將于年內交付。

上海微電子早在2018年就申請了一項名為“一種光刻投影物鏡及光刻機”的發明專利（申請號： 201811648523．1）。據悉，該專利申請人為上海微電子裝備 （集團） 股份有限公司。

光學光刻是一種用光將掩模圖案投影復制的技術，集成電路就是由投影曝光裝置制成的，將具有不同掩模圖案的圖形成像至基底上，制造集成電路、薄膜磁頭、液晶顯示板，或微機電等一系列結構。過去數十年曝光設備技術水平不斷發展，滿足了更小線條尺寸，更大曝光面積，更高可靠性及產率，以及更低成本的需求。然而現有的光刻投影物鏡依舊存在諸如數值孔徑較小、分辨率低、適用波段窄、數值孔徑不可變和非球面透鏡加工制造成本高等問題。

根據智慧芽數據顯示，截至最新，上海微電子及其關聯公司在126個國家／地區中，共有3541件專利申請，從專利授權量上來看，自2003年開始，上海微電子所有專利中，頭15年每年專利授權量占該年次專利授權量比例都非常高，幾乎占比能達到90％，但近幾年該公司的專利授權比例呈現下降趨勢（詳見圖1）。智慧芽咨詢專家表示，授權發明專利量在專利申請總量中的占比高低反映了其創新程度高低。此外，根據智慧芽的數據庫可知，該公司的上述專利申請技術構成如下，該公司有48．01％的專利技術都是和“圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設備”有關（詳見圖2）。

圖1：上海微電子專利趨勢

圖2：上海微電子專利技術構成

（備注：智慧芽全球專利數據庫收錄數據包括126個國家／地區中已經公開的專利，一般來說，專利從申請到公開可查詢，需要4到18個月）