最新數據顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。業內預估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產能將達到45~50臺的規模。
7納米及更先進制程，必須借助光刻設備轉印半導體電路圖案。追逐先進制程的芯片制造廠商中，臺積電和三星均已引入光刻機。目前，臺積電和三星已進入5nm工藝的量產階段，臺積電代工的產品包括蘋果A14、M1、華為麒麟9000等，后者則包括Exynos 1080、驍龍888等。
據日經中文網報道，在半導體制造領域將電路轉印到基板的設備市場上，尼康、佳能和荷蘭ASML這三家企業形成壟斷，但支持EUV技術的設備目前只有ASML成功實現商用化。
ASML表示，迭代到5nm后，EUV的層數達到了10~14層，包括但不限于觸點、過孔以及關鍵金屬層等過程。未來的3nm、2nm，對EUV的依賴將更甚。
另外，ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻機TWINSCAN NXE:3600D，生產效率提升18%、機器匹配套準精度改進為1.1nm，單臺價格或高于老款的1.2億歐元（約合9.5億元人民幣）。
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