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瑞萨与松下联手开发领先SoC工艺

2009-10-20
作者:瑞萨

    瑞薩科技公司與松下公司共同宣布,在瑞薩那珂分部(茨城縣日立那珂市)集中精力聯合開發領先的SoC工藝技術,并將其28-32nm工藝開發線投入運營。在瑞薩那珂分部,兩家公司正通過致力于對300mm晶圓產品線的聯合開發和提供聯合開發結構,進行28nm工藝技術的開發,旨在不久的將來將其投入批量生產。

 

    早在1998年瑞薩還未正式成立之時,即已與松下約定聯合開發新一代SoC技術,并在瑞薩北伊丹事務所(兵庫縣依丹市)不斷開發面向90nm、65nm、45nm和32nm系列的半導體工藝技術。2008年10月,在將具有金屬/高k柵極堆棧結構與面向32nm系統SoC工藝的超低k材料晶體管技術進行結合,而使互聯技術得到開發后,即確立了將其投入批量生產的目標日期。  

  

    此后,在2009年7月,雙方又利用面向28nm工藝的金屬/高k柵極堆棧結構合作開發了SRAM單元。現在,在這些成果的基礎上,兩家公司開始運營該生產線,以便在新近安裝于瑞薩那珂分部的300nm晶圓開發線內,利用28nm制造工藝技術聯合開發全集成技術。  

  

    在那珂分部的開發線中,除了從瑞薩北伊丹事務所轉移過來的部分開發線設備以外,兩家公司還安裝了全新的生產設備,以開發批量生產中實際所需的晶圓尺寸的產品,完成順利向批量生產階段的過渡,達到削減開發成本、縮短開發時間,從而提高開發和生產效率的目的。    

 

    28-32nm SoC工藝技術作為聯合開發的成果,已經應用到兩家公司推出的先進移動應用和數字家電的SoC中。此外,這些產品也已在兩家公司的各個分部實現了批量生產。    

 

    從促進早期技術積累到取得如今的成果,兩家公司一直借助于這種長期的合作伙伴關系,進行持續有效地開發,并致力于將這些先進技術及早地投入到應用中去。

   

 

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