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發(fā)表于：2021/6/3 上午5:34:13
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南大光电高端ArF光刻胶获得突破！未来可用于7nm工艺
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南大光电ArF光刻胶产品取得逻辑芯片制造企业55nm技术节点认证突破
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打破日美垄断 国产ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺
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