美光技術公司正在使用極紫外（EUV）光刻技術來加快DRAM的開發。它正在參加由世界排名第一和第二的DRAM制造商三星電子和SK Hynix發起的競賽。
美光科技公司正在尋找工程師，他們將通過各種招聘站點負責開發EUV設施。工程師將負責開發EUV掃描儀技術，管理新的EUV設備并與ASML（世界上唯一的EUV設備生產商）進行通信。
美光在全球DRAM市場中排名第三，僅次于三星電子和SK Hynix。它的市場份額約為20％。
美光最近在NAND閃存領域首次推出了176層產品。與其他頂級DRAM制造商一樣，該公司正在生產10納米第三代（1z）產品。預計該芯片制造商將在2021年上半年推出第四代（1a）DRAM。
但是，美光與三星電子和SK海力士之間的主要區別在于，美光不會將EUV技術應用于1a DRAM。
美光公司在最近的一份聲明中建議，鑒于高成本和技術局限性，它甚至可能不會將EUV技術應用于下一代DRAM“ 1-beta”產品。
美光公司副總裁Scott DerBauer表示，該公司將在1-delta產品的生產中引入EUV工藝。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。