尼康昨日宣布，已對(duì)荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥（ASML）和德國光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司（Carl Zeiss）提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。

尼康稱，已在荷蘭、德國和日本對(duì)阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟。卡爾蔡司是阿斯麥的光學(xué)設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術(shù)。”

當(dāng)前，光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體，而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機(jī)市場(chǎng)。評(píng)級(jí)機(jī)構(gòu)“惠譽(yù)評(píng)級(jí)”（Fitch Ratings）今年1月發(fā)布的調(diào)研報(bào)告顯示，在高端光刻機(jī)市場(chǎng)，阿斯麥的份額高達(dá)90%。

尼康在訴訟文件中稱，要求阿斯麥和卡爾蔡司對(duì)未授權(quán)使用專利技術(shù)而做出賠償。

對(duì)此，阿斯麥總裁兼CEO彼得·溫尼克（Peter Wennink）稱：“尼康的訴訟毫無依據(jù)，沒有必要，為半導(dǎo)體市場(chǎng)制造了不確定性。”溫尼克還稱，阿斯麥曾多次試圖與尼康談判，希望能對(duì)當(dāng)前的一份交叉授權(quán)協(xié)議進(jìn)行延期。