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英特尔号称10纳米工艺芯片领先对手整整一代

2017-03-30

       據(jù)HotHardware網(wǎng)站報(bào)道,英特爾正在為今年晚些時(shí)候發(fā)布10納米工藝的Cannonlake處理器進(jìn)行準(zhǔn)備工作,并已經(jīng)開始宣傳其先進(jìn)制造工藝的優(yōu)勢(shì)。英特爾將在10納米工藝方面與三星等競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手決一勝負(fù)。例如,高通已經(jīng)開始向客戶交付采用三星10納米FinFET工藝的驍龍835處理器,并推出集成有48個(gè)內(nèi)核的Centriq 2400 ARM服務(wù)器芯片嘗試向英特爾傳統(tǒng)領(lǐng)地發(fā)起進(jìn)攻。但英特爾認(rèn)為,它擁有出色的生產(chǎn)工藝,希望外界了解這一點(diǎn)。

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       但是,如果問起英特爾是如何看待10納米工藝的,英特爾會(huì)稱其10納米工藝遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

       事實(shí)上,英特爾在“Technology and Manufacturing Day”中表示,其10納米制造工藝比“其他公司”領(lǐng)先整整一代。英特爾還表示,在10納米工藝方面,它有最高的功能密度,并采取措施確保在性能和成本方面遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先于三星等競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

       據(jù)英特爾稱,其10納米芯片制造成本比對(duì)手低30%。

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       HotHardware表示,在談到業(yè)界對(duì)摩爾定律是否已經(jīng)失效的擔(dān)憂時(shí),英特爾執(zhí)行副總裁斯塔西·史密斯(Stacy Smith)進(jìn)行了反駁,“按單個(gè)晶體管成本計(jì)算,我們的下跌速度略快于歷史水平。摩爾定律還有生命力。我們邁出的步伐更大,領(lǐng)先業(yè)界對(duì)手3年時(shí)間。”

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       那么問題來了,英特爾如何證明其領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)呢?除已經(jīng)在采用第三代3D FinFET工藝外,英特爾還把晶體管柵極間距由14納米工藝的70納米減少至10納米工藝的54納米,最小金屬間距(minimum metal pitch)由52納米縮小到36納米。因此,英特爾10納米工藝芯片邏輯晶體管密度是上一代14納米工藝的2.7倍,是與其最接近競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的2倍。

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       HotHardware稱,如上圖所示,芯片制造工藝由45納米發(fā)展到32納米和22納米時(shí),芯片模區(qū)減小的比例都是0.62倍,但芯片制造工藝由22納米發(fā)展到14納米時(shí),減小比例大幅提升,制造工藝由14納米發(fā)展到10納米時(shí),減小比例再次提升。這一超高的減小比例使得英特爾能比競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手生產(chǎn)更小和密度更高的10納米工藝芯片。

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       英特爾稱,10納米工藝的進(jìn)一步優(yōu)化,意味著與14納米產(chǎn)品(例如Skylake和Kaby Lake)相比,即將發(fā)布的Cannonlake處理器性能會(huì)提升至多25%,能耗會(huì)降低45%。未來,英特爾將開發(fā)被稱作“10++”的“增強(qiáng)版”10納米工藝,性能會(huì)再提升15%,能耗則會(huì)再降低至多30%。
       史密斯稱,“我們總是會(huì)考慮以后3代工藝——7-9年。目前我們?cè)诳紤]7和5納米工藝。我們可能還不十分清楚哪種方法最適合5納米工藝,但我們的文化因這些挑戰(zhàn)而發(fā)展。”


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