日前，南大光電披露其《2020年度向特定對象發行股票預案》。預案顯示，南大光電擬向不超過35名特定對象發行股票，募集資金總額不超過6.35億元（含本數），扣除發行費用后的凈額將用于光刻膠項目、擴建2000噸/年三氟化氮生產裝置項目以及補充流動資金。

（圖片來源：截圖于南大光電公告）

其中，光刻膠項目總投資額6.60億元，擬使用募集資金金額1.50億元，項目目標到2021年底，將在我國：1）首次建立ArF光刻膠產品大規模生產線，形成年產25噸ArF（干式和浸沒式）光刻膠產品的生產能力，產品性能滿足90nm-14nm集成電路制造的要求。產品通過IC芯片制造企業的使用認證，實現批量銷售；2）建立國內第一個專業用于ArF光刻膠產品開發的檢測評估平臺。平臺配備ArF光刻機、涂膠顯影一體機、特征尺寸掃描電鏡、缺陷檢測和分析等檢測設備，滿足先進光刻膠產品和技術開發的需求；3）建立一支具有國際水平的先進光刻膠產品開發和產業化隊伍。

該項目的實施單位為南大光電子公司寧波南大光電材料有限公司，建設內容包括“先進光刻膠及高純配套材料的開發和產業化”和“ArF光刻膠產品的開發和產業化”。前者完全達產后，將建成光刻膠研發中心、先進光刻膠的分析測試中心，以及年產350噸的高純顯影液的生產線；后者完全達產后，將建成年產5噸ArF干式光刻膠的生產線、年產20噸ArF浸沒式光刻膠的生產線以及年產45噸的光刻膠配套高純試劑的生產線。

公告指出，光刻膠及配套試劑在晶圓制造材料中合計占比約12%，為第4大晶圓制造材料，且其技術開發難度大，被譽為半導體材料“皇冠上的明珠”。目前國內光刻膠生產產能主要集中在PCB光刻膠、LCD光刻膠等中低端產品，但高端光刻膠中ArF浸沒式光刻膠是集成電路28nm、14nm乃至10nm以下制程的關鍵，而我國高端光刻膠幾乎處于空白狀態。南大光電已率先制備出國內首款ArF光刻膠產品，但目前尚未量產。

南大光電表示，本次募投項目實施完畢后，將實現國產先進光刻膠及配套材料的進口替代，有助于解決高端光刻材料“卡脖子”的問題；推進公司光刻膠業務布局，實現國內高端光刻膠零的突破，提升我國高端光刻膠這一領域的自主可控水平。

此外，擴建2000噸/年三氟化氮生產裝置項目擬投資3億元，擴建2000噸/年三氟化氮生產裝置項目，包括：5#三氟化氮電解廠房、6#三氟化氮電解廠房、3#三氟化氮后處理廠房。項目的實施單位為山東飛源氣體有限公司。

公告指出，2019年11月，公司開始布局含氟電子特氣業務，完成了對飛源氣體的收購。公司通過本次募投項目的實施，將擴大三氟化氮氣體產能，從而深化含氟電子特氣領域投資布局，增強對公司集成電路客戶的服務能力，擴大公司產品的市場份額，參與含氟電子特氣全球競爭，保持公司在電子特氣領域的領先地位和市場競爭力。