7月28日消息，當地時間7月27日，據美國科技商業媒體《信息報》報道，國內一家企業已開始小規模量產首款國產浸沒式深紫外（DUV）光刻機，預計今年將向中芯國際、華虹半導體和長鑫存儲交付約5臺設備，并計劃于2027年將產量提高至約20臺。

據兩位不愿具名的知情人士透露，這家總部企業位于上海，目前已啟動浸潤式DUV光刻機的批量生產。而該類設備是臺積電等全球主要芯片制造商在生產中廣泛采用的核心裝備之一。

據介紹，為加快研發進度，該公司已整合了國內其他企業的浸潤式DUV研發團隊，其中包括政府支持的芯片設備初創企業上海昱量升技術。

報道稱，這款國產光刻機主打28納米成熟制程芯片生產，依托多重圖形化曝光工藝，還可滿足7納米級別芯片的制造需求。

若該國產DUV光刻機成功在芯片制造產線上實現穩定量產，將有望部分替代目前由荷蘭阿斯麥（ASML）主導的進口設備。

眾所周知，ASML目前是全球光刻機市場的最大供應商，長期以來，全球浸沒式DUV光刻機市場由荷蘭阿斯麥公司主導。

相關消息傳出，美股開盤后，阿斯麥股價大幅下跌，盤中一度跌超8%，交易一度暫停。

報道分析認為，這一進展標志著中國在推進半導體設備國產化、降低對海外光刻設備依賴以及減輕美荷出口管制影響方面邁出重要一步。