11月11日消息，據“中國光谷”微信公眾號介紹，日前，國內首條基于12寸40nm CMOS工藝線的全國產化硅光PDK（工藝設計套件）、TDK（測試設計套件）及ADK（封裝設計套件）流片服務平臺正式在光谷投用。
該平臺由國家信息光電子創新中心（NOEIC）建設運營，標志著光谷企業在硅光領域實現又一關鍵突破。
據介紹，傳統芯片靠電子傳輸數據，好比汽車運貨，硅光芯片則讓光子穿梭于光纖，變身“光速高鐵”。
該平臺創新構建硅光MPW服務模式，通過將多個芯片設計集成于同一晶圓流片，實現成本分攤，大幅降低研發門檻。
國家信息光電子創新中心硅光芯片
平臺基于40nm制程的硅光PDK1.0性能總體達到商用要求，其加工精度、波導損耗、光耦合效率等指標達國際先進水平。
據了解，除PDK外，平臺還集成了TDK和ADK，可提供芯片從集成設計到封裝驗證的全流程支撐，可滿足科研成果轉化和產品研制中的快速迭代需求。
國家信息光電子創新中心硅光芯片加工場景
近年隨著技術成熟及AI需求爆發，硅光芯片在人工智能、大數據等前沿產業領域迎來大規模應用。
咨詢機構LightCounting預計，到2030年硅光芯片在光通信芯片市場占比將增至60%。
本站內容除特別聲明的原創文章之外，轉載內容只為傳遞更多信息，并不代表本網站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創文章及圖片等內容無法一一聯系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題，請及時通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當措施，避免給雙方造成不必要的經濟損失。聯系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。