12月17日，南大光電公告，公司控股子公司寧波南大光電自主研發的ArF光刻膠產品近日成功通過客戶的使用認證。
“ArF光刻膠產品開發和產業化”是寧波南大光電承接國家“02專項”的一個重點攻關項目。該項目總投資6億元，完全達產后，預計實現約10億元的年銷售額，年利稅預計約2億元。
按不同制程，半導體用光刻膠可分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠及G線、i線光刻膠，前三者均為高端光刻膠產品。本次產品的認證通過，標志著“ArF光刻膠產品開發和產業化”項目取得了關鍵性的突破，成為國內通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠。
ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造。
全球半導體光刻膠市場集中度高，市場被美日公司長期壟斷,日本的JSR、東京應化、信越化學及富士電子四家企業占據了全球70%以上的市場份額。受益于本土半導體產能持續擴大和集成電路大基金的支持，國產光刻膠正在迎來前所未有的發展機遇。
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